狭窄空间内的高精度

采用双相惯性驱动的小型线性平台,实现长期稳定的纳米级精密定位

面向严苛高科技应用的精密稳定定位系统

现代高科技定位应用面临长期定位稳定性、纳米级重复精度、紧凑型设计、狭小空间灵活配置等核心挑战。 即使是轻微偏差也可能导致功能失效。 因此,对分辨率、稳定性和集成能力提出了严苛要求。 B-421 BIX小型线性平台专为满足这些技术需求而设计。

 

优势概览:
 

  • 出色精度: 最小位移:10nm

  • 稳定性: 自锁机构可实现长期高稳定性定位

  • 适应性: 高有效载荷和驱动力

  • 节省空间,配置灵活: 紧凑型设计,易于堆叠,灵活实现多轴组合

  • 精密定位: 高分辨率和重复精度

 

与我们探讨您的特定要求

精确的光束整形与偏转

现代高精度系统的成功,尤其依赖于光学元件的纳米级精密稳定定位。 光束操控的典型需求包括:反射镜、光阑和透镜的长期定位,以及可重复光束偏转的纳米级精密对准。 市场亟需结构紧凑并能灵活集成至多轴系统的纳米级精密定位方案。 这对半导体领域(例如套刻量测)以及显微领域(例如TIRF和STED等超分辨显微技术)的光束质量控制尤为重要。

B-421 BIX小型线性平台将半导体质量检测流程的精度提升至全新维度——这正是传统系统的技术边界所在。 依托其紧凑结构和纳米级精密运动特性,我们帮助客户实现了可靠的质量控制与制程优化。

Cameron Hughes博士,PI产品经理

重要参数概览:

  • 最小位移:10nm

  • 尺寸:25×11mm(宽×高)

  • 行程范围:13至33mm

  • 分辨率:6nm

  • 最大驱动力:2.5N

  • 最大有效载荷:0.5kg(X向运动);0.15kg(Z向运动)

  • 便捷易用的PIMikroMove软件

​​​​立即下载数据表

为何选择PI?


如果对产品有任何疑问,或者想与我们的专家探讨您的应用, 欢迎立即联系我们!

联系我们

  1. 填写表格。
  2. 点击“提交”。
  3. 我们会尽快与您联系。