面向严苛高科技应用的精密稳定定位系统

现代高科技定位应用面临长期定位稳定性、纳米级重复精度、紧凑型设计、狭小空间灵活配置等核心挑战。 即使是轻微偏差也可能导致功能失效。 因此,对分辨率、稳定性和集成能力提出了严苛要求。 B-421 BIX小型线性平台专为满足这些技术需求而设计。
优势概览:
出色精度: 最小位移:10nm
稳定性: 自锁机构可实现长期高稳定性定位
适应性: 高有效载荷和驱动力
节省空间,配置灵活: 紧凑型设计,易于堆叠,灵活实现多轴组合
精密定位: 高分辨率和重复精度
与我们探讨您的特定要求
精确的光束整形与偏转

现代高精度系统的成功,尤其依赖于光学元件的纳米级精密稳定定位。 光束操控的典型需求包括:反射镜、光阑和透镜的长期定位,以及可重复光束偏转的纳米级精密对准。 市场亟需结构紧凑并能灵活集成至多轴系统的纳米级精密定位方案。 这对半导体领域(例如套刻量测)以及显微领域(例如TIRF和STED等超分辨显微技术)的光束质量控制尤为重要。

B-421 BIX小型线性平台将半导体质量检测流程的精度提升至全新维度——这正是传统系统的技术边界所在。 依托其紧凑结构和纳米级精密运动特性,我们帮助客户实现了可靠的质量控制与制程优化。
Cameron Hughes博士,PI产品经理
重要参数概览:

重要参数概览:
最小位移:10nm
尺寸:25×11mm(宽×高)
行程范围:13至33mm
分辨率:6nm
最大驱动力:2.5N
最大有效载荷:0.5kg(X向运动);0.15kg(Z向运动)
便捷易用的PIMikroMove软件
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